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          中國曝光機羲之,精度逼近 卻難量產

          时间:2025-08-30 16:03:26来源:重庆 作者:代妈应聘机构
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          浙江大學余杭量子研究院研發的中國之精 100kV 電子束(EBL)曝光機「羲之」 ,良率不佳 。曝光但由於採用「逐點書寫」(point-by-point writing)──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間,機羲近试管代妈机构哪家好仍有待觀察。度逼接近 ASML High-NA EUV 標準 。難量生產效率遠低於 EUV 系統。【代妈机构有哪些】代妈25万到30万起同時售價低於國際平均水準 ,

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          外媒報導 ,「羲之」定位精度可達 0.6 奈米,無法取得最先進的代妈纯补偿25万起 EUV 機台  ,

          • China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV, But Limited to Research Applications, Not Mass Production

          (首圖來源 :中國杭州人民政府)

          延伸閱讀 :

          • 中媒:中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

          文章看完覺得有幫助,【代妈官网】哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的 LDP 光源,並透過多重圖案化技術(multiple patterning)推進製程 ,中芯國際的 5 奈米量產因此受阻 ,華為也被限制在 7 奈米製程,

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